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Industry-Specific Pump Solutions

Every industry presents unique fluid handling challenges. Our engineers have developed specialized pump configurations optimized for chemicals, temperatures, and operating conditions of each sector.

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Tratamiento de aguas residuales y gases de escape
WastewaterTreatment ExhaustGasScrubbing Desulfurization CorrosionResistantAlloys ContinuousDuty Wastewater-&-Exhaust-Gas-Treatment

Tratamiento de aguas residuales y gases de escape

El ácido HF (fluorhídrico) es extremadamente corrosivo para todos los metalesLa contaminación por iones metálicos puede destruir el rendimiento de la obleaLa suspensión CMP contiene partículas abrasivas que destruyen los sellosSe requiere cero derramamiento de partículas para sistemas de agua ultrapura

Desafíos clave
Suspension FGD húmeda con 60.000-80.000 ppm de Cl ⁻ a 50 ° C-65 ° C causa corrosión severa de picaduras y grietas, con 316L fallando en 48 horas
La suspensión de yeso de alto contenido sólido (3,5%-5,0%) y la cavitación en operaciones fuera del diseño causan una pérdida de masa del impulsor de hasta 2,5 g/100 horas
Las fugas de sellado mecánico liberan H ₂S, NH₃, y COV (0,5-2,0 L/día por bomba), exponiendo a las plantas a multas de USD 70,000-280,000 por incidente
Las partículas trazas y los medios abrasivos destruyen los rodamientos y los sellos, lo que requiere un accionamiento magnético sin fugas o piezas húmedas resistentes al desgaste
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Electroplatado/Tratamiento superficial
Electroplating Coating Anodizing MetalSurfaceTreatment ElectrolessNickel Electroplating/Surface Treatment

Electroplatado/Tratamiento superficial

Las vías de flujo revestidas con PFA/PTFE con cero piezas mojadas de metal soportan el servicio de ácido HF sin corrosión o lixiviación iónica La construcción de fluoropolímero de alta pureza logra lixiviación iónica de metal <0,05 ppb, salvaguardando el rendimiento de la oblea en semiconductores que

Desafíos clave
Las trayectorias de flujo revestidas con PFA/PTFE con cero piezas mojadas de metal soportan el servicio de ácido HF sin corrosión o lixiviación iónica
La construcción de fluoropolímeros de alta pureza logra la lixiviación de iones metálicos <0,05 ppb, salvaguardando el rendimiento de la oblea en procesos húmedos de semiconductores.
Los impulsores CD4MCu resistentes al desgaste y los diseños de impulsores abiertos manejan sólidos de suspensión abrasiva de hasta 15 mm sin falla de sellado o obstrucción.
El enjuague UPW de 18 MΩ·cm y la limpieza verificada por ICP-MS aseguran que el derramamiento de partículas se elimine prácticamente para la circulación de agua ultrapura.
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Fabricación de placas de circuito
PCBEtching SemiconductorWetProcess PhotovoltaicManufacturing UltraPureChemicals PCB/Circuit Board Manufacturing

Fabricación de placas de circuito

La suspensión húmeda de FGD con cloruro de 60.000-80.000 ppm a 50°C-65°C causa corrosión severa de picaduras y grietas. La suspensión de yeso de alto contenido sólido (3,5%-5,0%) y la cavitación pueden acelerar el desgaste del impulsor. La fuga de sellado mecánico puede liberar H

Desafíos clave
La suspensión húmeda de FGD con cloruro de 60.000-80.000 ppm a 50°C-65°C causa corrosión severa de picaduras y grietas.
La suspensión de yeso de alto contenido sólido (3,5%-5,0%) y la cavitación pueden acelerar el desgaste del impulsor.
La fuga de sellado mecánico puede liberar H ₂S, NH₃, y COV, creando riesgos para la seguridad y el medio ambiente.
Las partículas abrasivas pueden dañar los rodamientos y los sellos, lo que requiere bombas de accionamiento magnético sin fugas y partes húmedas resistentes al desgaste.
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Industria de Semiconductores
UltraHighPurity CMPslurry PhotolithographyChemicals UPWcirculation ZeroParticleGeneration Semiconductor Industry

Industria de Semiconductores

Los productos químicos altamente corrosivos causan corrosión y contaminación metálica, lo que requiere partes mojadas de alta pureza. Las suspensiones CMP con partículas abrasivas pueden aglomerarse y sedimentarse, lo que requiere bombas resistentes al desgaste y de bajo cizallamiento. La dosificación química precisa es crítica, con dos

Desafíos clave
Los productos químicos altamente corrosivos causan corrosión y contaminación metálica, lo que requiere partes mojadas de alta pureza.
Las suspensiones CMP con partículas abrasivas pueden aglomerarse y sedimentarse, lo que requiere bombas resistentes al desgaste y de bajo cizallamiento.
La dosificación química precisa es crítica, con una precisión de dosificación de hasta ±0,5%.
Los estrictos requisitos de limpieza exigen diseños sin fugas, con bajas extracciones y con bajas patas muertas.
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Industria solar/fotovoltaica
SolarCellEtching PVtexturing SlurryDelivery UPWcirculation ZeroMetalContamination Solar/Photovoltaic Industry

Industria solar/fotovoltaica

Fluidos altamente corrosivos como KOH, HF y HNO ₃ puede causar graves riesgos de corrosión y contaminación. Las suspensiones y partículas abrasivas pueden acelerar el desgaste del impulsor, la obstrucción y la pérdida de rendimiento de la bomba. La contaminación por iones metálicos y partículas puede afectar a las células

Desafíos clave
Fluidos altamente corrosivos como KOH, HF y HNO ₃ puede causar graves riesgos de corrosión y contaminación.
Las suspensiones y partículas abrasivas pueden acelerar el desgaste del impulsor, la obstrucción y la pérdida de rendimiento de la bomba.
La contaminación por iones metálicos y partículas puede afectar a la calidad celular, la estabilidad del proceso y la eficiencia de la producción.
Los requisitos de alta pureza y dosificación precisa requieren bombas limpias y fiables con excelente resistencia química y control preciso del flujo.
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Industria Química
AcidAlkaliTransfer CorrosiveMedia SolventHandling PetrochemicalProcessing ZeroLeakage Chemical Industry

Industria Química

Los productos químicos altamente corrosivos requieren piezas húmedas resistentes a la corrosión y de alta pureza. Los fluidos de alta temperatura y alta presión requieren bombas fiables con una fuerte resistencia a la corrosión y a la cavitación. La dosificación precisa del catalizador y los productos químicos requiere

Desafíos clave
Los productos químicos altamente corrosivos requieren piezas húmedas resistentes a la corrosión y de alta pureza.
Los fluidos de alta temperatura y alta presión requieren bombas fiables con una fuerte resistencia a la corrosión y a la cavitación.
La dosificación precisa de catalizadores y productos químicos requiere una alta precisión de dosificación, de hasta ±0,5%.
Los estrictos requisitos de limpieza requieren diseños de bombas de baja capacidad de extracción y resistentes a la contaminación.
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